概要

１．採用了电子束式的蒸发源。

　　可以进行高熔点金属和氧化物的镀膜。

２．蒸发速度的抑制和膜厚的控制由水晶发振式膜厚计来进行

３．搭载的主泵为冷凝泵。

４．操作控制系统为全自动式。

特征

１．为获得良好的膜厚分布，配置了蒸发源和基板的治具。

２．电子束式蒸发源採用了6点式坩埚，因此同一真空内可以镀6种膜　　

３．基板收纳容量为Φ75mm30片、Φ100mm20片、Φ150mmで9片。

４．可以做到入射角±5°以内的镀膜。

５．真空槽内的防着板做成了可以分割的形式，更换起来更加方便。

６．作为可选配件，提供了基板清扫机构以及冷阱。

用途

１．电极膜・保护膜

２．剥离膜