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剥离成膜、厚膜成膜、低温成膜多功能型 真空蒸镀设备 SEC-22C

概要

1.採用了电子束式的蒸发源。

  可以进行高熔点金属和氧化物的镀膜。

2.蒸发速度的抑制和膜厚的控制由水晶发振式膜厚计来进行

3.搭载的主泵为冷凝泵。

4.操作控制系统为全自动式。


特征

1.为获得良好的膜厚分布,配置了蒸发源和基板的治具。

2.电子束式蒸发源採用了6点式坩埚,因此同一真空内可以镀6种膜  

3.基板收纳容量为Φ75mm30片、Φ100mm20片、Φ150mmで9片。

4.可以做到入射角±5°以内的镀膜。

5.真空槽内的防着板做成了可以分割的形式,更换起来更加方便。

6.作为可选配件,提供了基板清扫机构以及冷阱。


用途

1.电极膜・保护膜

2.剥离膜

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