特点
1.高效率排气系统
2.可降低颗粒及微尘污染 选购配置
3.高精度膜厚控制系统
4.高功率 ・ 大面积照射离子源
重复性性能
采用新开发研制的光纤式光学膜厚仪、配备80点监控玻璃的稳定温度设计实现高精度特性。
通过纳入难以受到污染的技术,并以质量稳定的真空技术,连续20批次I R截止滤光片镀膜中不需要清扫・校正。
高功率RF离子源
Sapio 专用设计配备高效率RF 离子源,可从多层光学滤波片到树脂基片上镀高品质薄膜。
用独特的方法确定离子中和器点火,使其稳定放电。
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真空光谱特性监控 Spectra-Ace
光学薄膜形成设备 Genesis-AR 系列
超高性能光学薄膜用镀膜机 Sapio 1300 1550
高出力RF离子源 ISG-180
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