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原子层沉积设备 ALD系列

[特点]

  1. 全自动

可在注模成型的基板上全自动地进行真空成膜(溅射和聚合)。

循环时间:100秒

高度粘合

即使无底涂层亦可获得高粘合性。


[目标产品]

汽车前照灯反射器

镜子

金属装饰膜




PC基板 无打底膜层

Al镀膜后划成十字格状态,没有发现薄膜脱落。


Al单层膜及

Al(100nm)+SiOx(20nm)反射率


设备结构


●最大装载尺寸     W250×L500×D150㎜

●适用基片材质            PC,PET,PP,PE等

●溅射数率:         10nm/sec以上(Al)

●聚合数率                  1nm/sec

●抽气速度               40sec可达0.1Pa(溅射室),40sec可达10Pa(聚合室)

●处理周期 自基片投放、溅镀、聚合至取出约在100sec以内完成。

●膜性能 反射率85%以上,KOH 1%10min

●泵配置 溅射室:RP + MBP + TMP,聚合室:RP + MBP(TMP选件)

●SP室+聚合室               2室配置

●溅 镀 室 高速率溅射阴极(靶材尺寸540×240mm)、40KW DC电源

●聚合室 辉光放电聚合电极×1个     1kW 射频电源

●溅射材料                  Al等

●聚合气体                  HMDSO(SiOx用)等


◇ 可选项        基板旋转机构

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