特 长

1. 采用３室连续式

   微调室和取件室各自独立，离子源也各自配备H/L，缩短了停机时间，实现了高效运转。

2. 多源同时处理

   本设备搭载了2台IGF-201型100mm离子束的离子源
   （与SFE-B03机型相同）。
   每1台最大可处理24个工件，共可同时处理48个工件。

3. 对应微小工件的高精度结构

   本设备也采用了在SFE-B03机型已有实绩的高精度, 高稳定性,高重现性的搬送结构。
   到现在为止，连续式机型难以处理的小型工件
   (2.0×1.6、1.6×1.2）的频率调整也可稳定的进行量产。

4. 考虑保养性能

   每个组件的各个机器都可以分解拆开，设计阶段就考虑了保养性能。

性 能

处理速度

0.3 sec/pc 以下
※18MHz以上的工件、1列24个以上的情况

微调精度

±1.5 ppm 以下

处理数

最大24列 (p4.0) ×32列

生产量

12000 pcs/时间 以上

概略规格

工件尺寸

SMD2016以下的小型工件也可适用

设备构成

3室 （预备室，微调室，取件室）连续式
※通过选购项目，可连接LD (O, D带电清洗机构)和ULD。

搬送系统

同SFE-B03型一样，都分别采用X轴搬送到H/L

排气系统

微调室 12寸CP
预备室/取件室 RP+MBP

离子源

100mm离子束矩形型 ×2台
⇒ 最大可同时处理48个工件

测量系统

网络分析仪 4台

个人电脑

Windows PC×2台、DOS PC×2台

频率微调工段

2阶段 （H, LL)

※设备规格/外观可改良或变更。
※本产品有外汇以及战略物资根据国际贸易管理方法的规定相当出口限制物品的情况。 因而在把相符合品拿到日本国外的时候拿到日本国政府的出口许可申请需要的手续。